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電感耦合等離子體刻蝕ICP

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設備名稱(chēng) 電感耦合等離子體刻蝕ICP   品牌型號 oxford plasma 100  

設備用途
利用F基和Cl基氣體產(chǎn)生的plasma,對化合物材料和硅基進(jìn)行刻蝕加工
 
主要技術(shù)指標:
可用氣體:Ar、N2、O2、SF6、H2、CH4、Cl2、BCl3
可刻蝕材料:InP、GaAs、Si
加工尺寸:≤8inch
最大刻蝕速率:對InP>200nm/min,對GaAs>200nm/min,
刻蝕均勻性:≤3%

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